No âmbito do protocolo estabelecido entre a Participação Portuguesa e o CITEX, os formandos de Design de Moda apresentaram projectos criativos para as fardas oficiais dos assistentes do Pavilhão de Portugal na Expo 2010 Shanghai. A vencedora deste desafio foi a aluna Ana Faria.
As propostas apresentadas pelos finalistas do curso de Design de Moda tiveram como critérios fundamentais de avaliação a adequação dos modelos às tendências de moda e de mercado, bem como os requisitos funcionais definidos para as fardas.
Ao promover internacionalmente a capacidade criativa de Portugal neste sector de actividade, a iniciativa conjunta da Participação Portuguesa e do CITEX integra também os jovens talentos, envolvendo assim a sociedade civil num acontecimento que projecta a imagem do País a nível mundial.
Simultaneamente, a Participação Portuguesa contribui para o enriquecimento do portfólio destes alunos e oferece ao vencedor a oportunidade de observar de perto o resultado do seu trabalho, premiando a Ana Faria com uma viagem, de uma semana, a Xangai, durante o período da Exposição.
A Expo 2010 Shanghai, ocupará uma área de 528 hectares ao longo das duas margens do rio Huangpu e decorre de 1 de Maio a 31 de Outubro de 2010, com o tema "Better City, Better Life", ”Melhores Cidades, Maior Qualidade de Vida”. No evento são esperados 70 milhões de visitantes.
Sem comentários:
Enviar um comentário